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PECS II 685
美国 GATAN公司
精密刻蚀镀膜仪 (PECS) II,采用两个宽束氩离子束对样品表面进行抛光,去除损失层,从而得到高质量的样品,用于在SEM、光镜或者扫描电子探针上进行成像、EDS,EBSD,CL,EBIC或者其他分析,另外将这两支离子枪对准靶材溅射,可用来对样品做导电金属膜沉积处理,以防止样品在电镜中发生荷电效应。 PECS II样品台采用液氮制冷方式。可以有效的保护样品,避免离子束热损伤,消除可能的假象。
抛光角度±10°, 每支离子枪可独立调节
离子束能量100 eV 到 8.0 keV
离子束流密度10 mA/cm2 峰值
样品大小:最大直径 32mm, 最大高度 15mm
样品装载:对于截面样品抛光采用 Ilion II 专利的样品挡板,二次再加工位置精确
样品旋转:1 到 6 rpm 可调
工作压力8 x 10-5 torr
潘宁离子枪
兼具有平面抛光、截面抛光及溅射镀膜功能
精准镀膜
冷台
EBSD样品制备、截面样品制备、金属材料(合金,镀层)、石油地质岩石矿物、光电材料、化工高分子材料、新能源电池材料。
投入日期:2020.07
管理人员:魏慧欣安放地址:分析测试中心F2-104
联系电话:027-87792451-103